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美國Trion反應離子刻蝕與沉積系統

價  格：詢價

產  地：更新時間：2021-01-19 15:36

品  牌：型  號：Oracle III

狀  態(tài)：正常點擊量：2941

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美***Trion Technology
反應式離子刻蝕系統及沉積系統

Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統制造商，Trion為化合物半導體、MEMS(微機電系統)、光電器件以及其他半導體市場提供多種設備。我們的產品在業(yè)內以系統占地面積*小、成本低而著稱，且設備及工藝的可靠性和穩(wěn)定性久經考驗。從整套的批量生產用設備，到簡單的實驗室研發(fā)用系統，盡在Trion。 

批量生產用設備:

Oracle III反應離子刻蝕與沉積系統

Oracle III由中央真空傳輸系統(CVT)、真空盒升降機和*多四個工藝反應室構成。這些工藝反應室與中央負載鎖對接，既能夠以生產模式運行，也能夠作為單個系統獨立作業(yè)。 Oracle III是市場上*靈活的系統，既可以為實驗室環(huán)境進行配置(使用單基片裝卸)，也可以為批量生產進行配置(使用真空盒升降機進行基片傳送)。

由于Oracle III *多可容納四個獨立的工藝室，其可以有多種不同的工藝組合，其中包括RIE/ICP (反應離子刻蝕機/電感耦合等離子)刻蝕和PECVD 沉積。多個室可以同時工作。鑒于所有工藝室均有真空負載鎖，工藝運行安全且沒有大氣污染。

 

 


產品參數


產品介紹



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