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日立超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡 SU9000
價 格:詢價
產(chǎn) 地:更新時間:2021-01-18 15:04
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超高分辨率場發(fā)射掃描電子顯微鏡 SU9000
專門為電子束敏感樣品和需300萬倍穩(wěn)定觀察的半導體器件,高分辨成像所設計。
特點
新的電子槍和電子光學設計提高了低加速電壓性能。
0.4nm / 30kV (SE)
1.2nm / 1kV (SE)
0.34nm / 30kV (STEM)用改良的高真空性能和無與倫比的電子束穩(wěn)定性來實現(xiàn)高效率截面觀察。
采用全新設計的Super E x B能量過濾技術,高效,靈活地收集SE / BSE/ STEM信號。